使用指令相关性查看深度来改善处理性能的方法和装置

Methods and apparatus for improving processing performance using instruction dependency check depth

Abstract

本发明的方法和装置用于:使用X纳米的制造处理而制造处理器,所述X纳米的制造处理是比Y纳米处理更高级的处理;响应于所述高级制造处理而提高所述处理器的相关性查看电路的深度,以改善处理功率,其中,所述相关性查看电路用于确定是否输入流水线的指令的操作数依赖于在流水线中正在被执行的任何其他指令的操作数。

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